NF EN 62047-25
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 25 : technologie de fabrication de MEMS à base de silicium - Méthode de mesure de la résistance à la traction-compression et au cisaillement d'une micro zone de brasure
Le présent document spécifie la méthode d'essai in situ pour mesurer la résistance de brasure d'une microzone de brasure fabriquée par des technologies de micro-usinage utilisées dans un système microélectromécanique (MEMS) à base de silicium. Le présent document s'applique à la mesure in situ de la résistance à la traction-compression et de la résistance au cisaillement d'une microzone de brasure fabriquée par un processus microélectronique et d'autres technologies de micro-usinage.
Le présent document spécifie la méthode d'essai in situ pour mesurer la résistance de brasure d'une microzone de brasure fabriquée par des technologies de micro-usinage utilisées dans un système microélectromécanique (MEMS) à base de silicium. Le présent document s'applique à la mesure in situ de la résistance à la traction-compression et de la résistance au cisaillement d'une microzone de brasure fabriquée par un processus microélectronique et d'autres technologies de micro-usinage.
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1 Domaine d'application
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2 Références normatives
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3 Termes et définitions
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4 Exigences
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5 Méthode d'essais
- Annexe A (informative) Dimensions de la structure d'essai et résistance à la traction/compression
- Annexe B (informative) Exemple de méthode d'essai de traction-compression
- Annexe ZA (normative) Références normatives à d'autres publications internationales avec les publications européennes correspondantes
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