IEC 62047-2:2006
Collections
Normes internationales IEC
Date de publication
août 2006
Nombre de pages
25 p.
Référence
IEC 62047-2:2006
IEC 62047-2:2006
août 2006
Norme internationale
En vigueur
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 2: Méthode d'essai de traction des matériaux en couche mince
Cette norme internationale specifie la methode pour les essais de traction des materiaux en couche mince d fune longueur et d fune largeur inferieure a 1 mm et d fune epaisseur inferieure a 10 Êm, qui sont des materiaux structurels principaux pour les systemes microelectromecaniques (MEMS), micromachines et dispositifs analogues. Les materiaux structurels principaux pour les MEMS, les micromachines et autres dispositifs analogues comportent des caracteristiques speciales telles que des dimensions typiques de l fordre de quelques microns, une fabrication de materiau par depot, et une fabrication d feprouvettes d fessai par usinage non mecanique au moyen de la gravure et de la photolithographie. Cette norme internationale specifie la methode d fessai qui garantit une precision correspondant aux caracteristiques speciales.
Informations générales
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Résumé
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 2: Méthode d'essai de traction des matériaux en couche mince
Cette norme internationale specifie la methode pour les essais de traction des materiaux en couche mince d fune longueur et d fune largeur inferieure a 1 mm et d fune epaisseur inferieure a 10 Êm, qui sont des materiaux structurels principaux pour les systemes microelectromecaniques (MEMS), micromachines et dispositifs analogues. Les materiaux structurels principaux pour les MEMS, les micromachines et autres dispositifs analogues comportent des caracteristiques speciales telles que des dimensions typiques de l fordre de quelques microns, une fabrication de materiau par depot, et une fabrication d feprouvettes d fessai par usinage non mecanique au moyen de la gravure et de la photolithographie. Cette norme internationale specifie la methode d fessai qui garantit une precision correspondant aux caracteristiques speciales.
Cette norme internationale specifie la methode pour les essais de traction des materiaux en couche mince d fune longueur et d fune largeur inferieure a 1 mm et d fune epaisseur inferieure a 10 Êm, qui sont des materiaux structurels principaux pour les systemes microelectromecaniques (MEMS), micromachines et dispositifs analogues. Les materiaux structurels principaux pour les MEMS, les micromachines et autres dispositifs analogues comportent des caracteristiques speciales telles que des dimensions typiques de l fordre de quelques microns, une fabrication de materiau par depot, et une fabrication d feprouvettes d fessai par usinage non mecanique au moyen de la gravure et de la photolithographie. Cette norme internationale specifie la methode d fessai qui garantit une precision correspondant aux caracteristiques speciales.
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