IEC 62276:2025
Tranches monocristallines pour applications utilisant des dispositifs à ondes acoustiques de surface (OAS) - Spécifications et méthodes de mesure
L'IEC 62276:2025 s?applique à la fabrication de tranches monocristallines de quartz synthétique, de niobate de lithium (LN), de tantalate de lithium (LT), de tétraborate de lithium (LBO) et de silicate de gallium et de lanthane (LGS), destinées à être utilisées comme substrats dans la fabrication de résonateurs et de filtres à ondes acoustiques de surface (OAS).Cette édition inclut les modifications techniques majeures suivantes par rapport à l?édition précédente:a) les termes et définitions, les exigences techniques, la fréquence d?échantillonnage, les méthodes d'essai et la mesure de la transmission, de la clarté et de la différence de couleur pour le LN et le LT ont été ajoutés, afin de satisfaire aux besoins de développement industriel;b) le terme « inclusion » mentionné en 4.13 et 6.10 et sa définition ont été ajoutés à l'Article 3, dans la mesure où ils n'était pas suffisamment défini;c) la spécification de la LTV et du PLTV, et la description correspondante de la fréquence d'échantillonnage pour le LN et le LT ont été ajoutées, dans la mesure où elles correspondent aux paramètres de performances clés pour les tranches;d) la tolérance de la spécification relative à la température de Curie pour le LN et le LT a été ajoutée afin de satisfaire aux exigences de développement de l'industrie;e) la mesure de l'épaisseur, de la TV5, de la TTV, de la LTV et du PLTV a été réalisée, y compris le principe et la méthode de mesure de l'épaisseur, de la TV5, de la TTV, de la LTV et du PLTV.
L'IEC 62276:2025 s?applique à la fabrication de tranches monocristallines de quartz synthétique, de niobate de lithium (LN), de tantalate de lithium (LT), de tétraborate de lithium (LBO) et de silicate de gallium et de lanthane (LGS), destinées à être utilisées comme substrats dans la fabrication de résonateurs et de filtres à ondes acoustiques de surface (OAS).
Cette édition inclut les modifications techniques majeures suivantes par rapport à l?édition précédente:
a) les termes et définitions, les exigences techniques, la fréquence d?échantillonnage, les méthodes d'essai et la mesure de la transmission, de la clarté et de la différence de couleur pour le LN et le LT ont été ajoutés, afin de satisfaire aux besoins de développement industriel;
b) le terme « inclusion » mentionné en 4.13 et 6.10 et sa définition ont été ajoutés à l'Article 3, dans la mesure où ils n'était pas suffisamment défini;
c) la spécification de la LTV et du PLTV, et la description correspondante de la fréquence d'échantillonnage pour le LN et le LT ont été ajoutées, dans la mesure où elles correspondent aux paramètres de performances clés pour les tranches;
d) la tolérance de la spécification relative à la température de Curie pour le LN et le LT a été ajoutée afin de satisfaire aux exigences de développement de l'industrie;
e) la mesure de l'épaisseur, de la TV5, de la TTV, de la LTV et du PLTV a été réalisée, y compris le principe et la méthode de mesure de l'épaisseur, de la TV5, de la TTV, de la LTV et du PLTV.
L'IEC 62276:2016 s'applique à la fabrication de tranches monocristallines de quartz synthétique, de niobate de lithium (LN), de tantalate de lithium (LT), de tétraborate de lithium (LBO) et de silicate de gallium et de lanthane (LGS) destinées à être utilisées comme substrats dans la fabrication de résonateurs et de filtres à ondes acoustiques de surface (OAS). La présente édition inclut les modifications techniques majeures suivantes par rapport à l'édition précédente: - Corrections des indications de l'angle d'Euler au Tableau 1 et des directions des axes à la Figure 3. - La définition de "cristal jumeau" n'était pas expliquée de manière suffisamment claire en 3.3.3. Elle a été révisée par une définition plus détaillée. - Le nombre maximal de canaux de gravure dans un germe de tranche de quartz qui ne traverse pas de la surface avant à la surface arrière est déterminé pour trois classes en 4.2.13 a). Les utilisateurs utilisent des parties de germes de tranches de quartz pour les dispositifs. Ces tranches de quartz nécessitent moins de canaux de gravure dans un germe pour réduire les défauts dans les dispositifs. La classification des canaux de gravure dans un germe peut nécessiter une augmentation de la qualité des tranches de quartz.
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