IEC 62047-3:2006
Dispositifs à semiconducteurs - Dispositifs microélectromécaniques - Partie 3: Eprouvette d'essai normalisée en couche mince pour l'essai de traction
Cette norme internationale specifie une eprouvette d fessai normalisee, qui est utilisee pour garantir le bien-fonde et la precision du systeme d fessais de traction pour les materiaux en couche mince avec une longueur et une largeur inferieures a 1 mm et une epaisseur inferieure a 10 Êm, et qui sont des materiaux de structure principaux pour les systemes microelectromecaniques (MEMS), les micromachines et dispositifs analogues. Cette norme internationale repose sur un concept tel qu fun systeme d fessais de traction puisse etre garanti du point de vue du bien-fonde et de la precision, lorsque les resistances a la traction mesurees des eprouvettes d fessai normalisees, dont la resistance a la traction est predeterminee, se situent dans la plage designee. Elle specifie egalement les eprouvettes d fessai pour minimiser les ecarts de caracteristiques parmi les eprouvettes.
Cette norme internationale specifie une eprouvette d fessai normalisee, qui est utilisee pour garantir le bien-fonde et la precision du systeme d fessais de traction pour les materiaux en couche mince avec une longueur et une largeur inferieures a 1 mm et une epaisseur inferieure a 10 Êm, et qui sont des materiaux de structure principaux pour les systemes microelectromecaniques (MEMS), les micromachines et dispositifs analogues. Cette norme internationale repose sur un concept tel qu fun systeme d fessais de traction puisse etre garanti du point de vue du bien-fonde et de la precision, lorsque les resistances a la traction mesurees des eprouvettes d fessai normalisees, dont la resistance a la traction est predeterminee, se situent dans la plage designee. Elle specifie egalement les eprouvettes d fessai pour minimiser les ecarts de caracteristiques parmi les eprouvettes.
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