NF ISO 23812

NF ISO 23812

juin 2009
Norme En vigueur

Analyse chimique des surfaces - Spectrométrie de masse des ions secondaires - Méthode pour l'étalonnage de la profondeur pour le silicium à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples

L'ISO 23812:2009 spécifie un mode opératoire permettant l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples.Elle ne s'applique pas à la région transitoire superficielle où la vitesse de pulvérisation n'est pas en régime permanent.Elle s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.

Informations générales

Collections

Normes nationales et documents normatifs nationaux

Date de publication

juin 2009

Nombre de pages

25 p.

Référence

NF ISO 23812

Codes ICS

71.040.40   Méthodes d'analyse chimique

Indice de classement

X21-066

Numéro de tirage

1 - 27/05/2009

Parenté internationale

Résumé
Analyse chimique des surfaces - Spectrométrie de masse des ions secondaires - Méthode pour l'étalonnage de la profondeur pour le silicium à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples

L'ISO 23812:2009 spécifie un mode opératoire permettant l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples.

Elle ne s'applique pas à la région transitoire superficielle où la vitesse de pulvérisation n'est pas en régime permanent.

Elle s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.

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