NF ISO 23812

NF ISO 23812

juin 2009
Norme En vigueur

Analyse chimique des surfaces - Spectrométrie de masse des ions secondaires - Méthode pour l'étalonnage de la profondeur pour le silicium à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples

Le présent document spécifie une méthode d'étalonnage de la profondeur pour le silicium, à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples. Ce mode opératoire permet l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS. Le présent document s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe. Il ne s'applique pas au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.

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Informations générales

Collections

Normes nationales et documents normatifs nationaux

Date de publication

juin 2009

Nombre de pages

25 p.

Référence

NF ISO 23812

Codes ICS

71.040.40   Méthodes d'analyse chimique

Indice de classement

X21-066

Numéro de tirage

1 - 27/05/2009

Parenté internationale

ISO 23812:2009
Résumé
Analyse chimique des surfaces - Spectrométrie de masse des ions secondaires - Méthode pour l'étalonnage de la profondeur pour le silicium à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples

Le présent document spécifie une méthode d'étalonnage de la profondeur pour le silicium, à l'aide de matériaux de référence à couches delta multiples. Ce mode opératoire permet l'étalonnage de l'échelle de profondeur dans une région de faible profondeur, inférieure à 50 nm, lors du profilage en profondeur SIMS. Le présent document s'applique au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe. Il ne s'applique pas au silicium monocristallin, au silicium polycristallin et au silicium amorphe.
Sommaire
  • Avant-propos
    iv
  • Introduction
    v
  • 1 Domaine d'application
    1
  • 2 Références normatives
    1
  • 3 Termes et définitions
    1
  • 4 Symboles et termes abrégés
    1
  • 5 Exigences relatives aux matériaux de référence à couches delta multiples
    3
  • 6 Modes opératoires de mesurage
    3
  • 7 Modes opératoires d'étalonnage
    4
  • 7.1 Principe d'étalonnage
    4
  • 7.2 Détermination de la vitesse de pulvérisation pour un matériau de référence
    5
  • 7.3 Étalonnage de l'échelle de profondeur pour un échantillon pour essai
    7
  • 7.4 Incertitude de la profondeur étalonnée
    8
  • 8 Expression des résultats
    9
  • 8.1 Étalonnage dans les mêmes conditions de pulvérisation que le matériau de référence
    9
  • 8.2 Étalonnage utilisant une vitesse de pulvérisation différente de celle utilisée pour l'échantillon pour essai
    9
  • 8.3 Étalonnage de la concentration
    9
  • 9 Rapport d'essai
    9
  • Annexe A (informative) Parcours projeté de l'ion d'oxygène dans le silicium
    10
  • Annexe B (informative) Estimations des décalages de pic dus au mixage d'atomes
    11
  • Annexe C (informative) Estimations du décalage de pic dû à la coalescence du pic
    14
  • Annexe D (informative) Dérivation de l'incertitude
    17
  • Bibliographie
    19
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